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氧化锆单晶基片
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氧化锆单晶基片

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氧化锆（ZrO2）单晶基片是很早被开发应用的高温超导基片之一。由于ZrO2单晶需掺入钇（Y）以稳定其结构， 一般实际使用的是YSZ单晶――加入钇稳定剂的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好，价格较低，特别适于用在试验性薄膜制备工作中。氧化锆也是制作双晶基片（用于高温超导结构技术）的良好材料。


晶体主要参数:

晶系立方晶系
晶格常数（Å）a=5.147

熔点（℃）

2700

密度（g/cm3）

6.0

莫氏硬度

8-8.5

热膨胀系数（/℃）

10.3x10-6

介电常数

ε=27

特点

价格较低

生长方法

弧熔法


基片规格：
尺寸:10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，
Ф15,Ф25等
厚度:0.5mm，1.0mm等
尺寸公差：<±0.1mm
厚度公差：<±0.015mm(特殊要求可达到<±0.005mm)
表面抛光:单面或双面
晶面定向精度:±0.5°
边缘定向精度:2°（特殊要求可达1°以内）
取向:＜100＞，＜110＞，＜111＞等
斜切晶片：可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角1°～ 45°）的晶片
Ra:≤5Å（5µm×5µm）
友情链接：  人工晶体  单晶薄膜基片
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